Pianka do mycia twarzy i demakijażu Solverx Sensitive Skin Forte to delikatny kosmetyk stworzony z myślą o pielęgnacji skóry wrażliwej i naczynkowej. Pozostawia skórę dokładnie oczyszczoną, ukojoną i przygotowaną do dalszej pielęgnacji. Poprzez zawartość skutecznych składników aktywnych naturalnego pochodzenia zapewnia ochronę skóry i jej odżywienie już na etapie oczyszczania.
Kompleks starannie dobranych olejów nawilży Twoją skórę, uelastyczni ją i ukoi podrażnienia. Olej z otrąb ryżowych zapobiega utracie wody z naskórka, zmiękcza go i wygładza. Olej z wiesiołka zwiększa elastyczność skóry i poprawia jej koloryt. Natomiast olej ze smoczego owocu sprzyja regeneracji. Wzbogacenie receptury o prebiotyki wspiera obecny na skórze mikrobiom, utrzymując równowagę hydrolipidową. Z kolei kwas laktobionowy łagodzi podrażnienia, chroni skórę przed działaniem wolnych rodników i przyczynia się do zmniejszenia widoczności popękanych naczynek.
Codzienne stosowanie pianki do demakijażu Solverx zapewni Twojej delikatnej skórze odpowiednie nawilżenie i ukojenie. Kosmetyk stymuluje proces odnowy komórkowej, chroni skórę i sprawia, że wygląda świeżo i promiennie.
Aqua, Cocamidopropyl Betaine, Decyl Glucoside, Glycerin, Polysorbate 20, Oryza Sativa (Rice) Bran Oil (olej z otrąb ryżowych), Oenothera Biennis (Evening Primrose) Seed Oil (olej z nasion wiesiołka dwuletniego), Hylocereus Undatus (Dragonfruit) Seed Oil (olej z nasion smoczego owocu), Inulin (inulina), Alpha-Glucan Oligosaccharide (alfa glukan), Glycyrrhiza Glabra Root Extract (ekstrakt z korzenia lukrecji gładkiej), Lactobionic Acid (kwas laktobionowy), Achillea Millefolium Extract (ekstrakt z krwawnika pospolitego), Niacinamide (witamina PP), Betaine (betaina), Panthenol (pantenol), Citric Acid, Hyaluronic Acid (kwas hialuronowy), Propylene Glycol, Ethylhexylglycerin, Phenoxyethanol, Parfum.