Maska nawilżająca do włosów suchych i zniszczonych Ronney Professional Hialuronic Complex Moisturizing 300 ml doskonale odżywia i odbudowuje pasma zniszczone po zabiegach chemicznych.
Jeśli Twoje kosmyki są przesuszone i elektryzują się, maska z kwasem hialuronowym będzie dla Ciebie idealnym rozwiązaniem. Starannie opracowana formuła dodaje im blasku, skutecznie nawilża i wygładza.
Zawarty w masce kwas hialuronowy otuli Twoje pasma intensywnie nawilżającą warstwą. Poprawę kondycji włosów poczujesz już po pierwszym użyciu. Efekt? Twoje włosy staną się gładkie i elastyczne. Formuła kosmetyku ułatwi rozczesywanie i układanie kosmyków. Zauważysz także mniejszą skłonność do elektryzowania i puszenia się pasm.
Maska wzmocni Twoje włosy od nasady, aż po same końce i ograniczy niekorzystny wpływ wysokiej temperatury na pasma.
Maska przeznaczona do stosowania na włosach suchych i zniszczonych.
Aqua, Sodium Laureth Sulfate, Sodium Chloride, Sodium Hylauronate (kwas hialuronowy), Sodium Cocamphoacetate, Sodium Cocyl Glutamate, Cocamide Dea, Cocamidropropyl Betaine (betaina), Parfum, Glycerin (gliceryna), Lauryl Glucoside, Tetrasodium Edta, Sodium Lauryl Glucose, Carboxylate, Citric Acid (kwas cytrynowy), Coumarin (kumaryna), Polyquaternium 7, Methylchloroisothiazolinone, Methylisothanizolinone.